清华新成果有望解决光刻机自研难题,这是怎么回事?

小编:优质农业网   人气:0℃   发布时间:2025-03-12 20:29:37
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SSMB光源的潜在应用之一是将来成为EUV光刻机的光源,这是国际社会高度重视清华大学SSMB研究的重要原因。在芯片制造行业,光刻机是必不可少的精密设备,是集成电路芯片制造中最复杂,最关键的工艺步骤,光刻机的曝光分辨率与波长直接相关,在半个多世纪以来,波长光刻技术的光源的规模正在缩小,这已被芯片行业公认为是新一代的主流光刻技术是使用波长为13.5纳米的光源的EUV光刻技术。

清华新成果有望解决光刻机自研难题,这是怎么回事?

相当于使用直径仅为直径的十分之一的极紫外光最后,一块指甲大小的芯片将包含数百亿个晶体管。该设备过程显示了人类技术发展的最高水平。荷兰ASML目前是世界上唯一的EUV光刻机供应商,每台EUV光刻机的价格都超过1亿美元,大功率EUV光源是EUV光刻机的核心基础。目前ASML使用高能脉冲激光轰击液态锡靶以形成等离子体,然后产生波长为13.5纳米的EUV光源,功率约为250瓦。

随着芯片工艺节点的不断缩小,预计对EUV光源的需求将继续增加,达到千瓦级别。简而言之,光刻机所需的EUV光需要短波长和高功率,大功率EUV光源的突破对于EUV光刻技术的进一步应用和发展至关重要。基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率,并有可能扩展到更短的波长,为突破大功率EUV光源提供了新的解决方案。我国自主研发EUV光刻机还有很长的路要走。基于SSMB的EUV光源有望解决自行开发的光刻机中最核心的?卡死?问题。

这就需要对SSMB EUV光源进行持续的科学技术研究,以及上下游产业链的合作,才能取得真正的成功。专业人士认为这项研究展示了一种新的方法,并且肯定会引起对粒子加速器和同步加速器辐射领域的兴趣,该实验演示了如何结合现有的两种主要加速器光源的特性:同步辐射辐射光源和自由电子激光器,有望将SSMB光源用于EUV中,是光刻和角度分辨光电子能量的未来。清华大学正在积极支持和推动在国家一级建立SSMB EUV光源项目,清华SSMB研究小组已向国家发改委提交了?稳态微束极紫外光源研究装置?的项目提案,并宣布了?十四五?期间国家重大的科学技术基础设施计划?。

相信很多人都知道,华为被芯片禁令限制了进一步的发展,但这个限制也仅仅是在制造端,而不是设计端。此前华为任正非就曾表示,所谓封锁也只是封锁了制造芯片的光刻机等设备,而并不能阻碍中国自主研发设计芯片的发展。这意味着,华为是有能力设计出全球最顶尖的芯片,而仅仅是受制于制造端。

杀不死我的必将使我更加强大,就在芯片禁令生效之后,华为内部甚至中国企业,纷纷都开始重新认识自主研发 科技 的重要性。将重要的 科技 掌握在自我手中,不用再受制于人,是每一个出海的中国企业必须面临的问题。与此同时,也开始投入重金在半导体 科技 领域。

这次卡脖子的光刻机技术,是重中之重。不过国外的各种公司却依然投来了鄙视的目光,认为光靠中国自主技术去研发,根本不可能设计出自研芯片。随着国外势力的这种冷嘲热讽,中国各高等院校开始加入了这一场反击战。

让技术的回归技术,光刻机在内部结构中,最主要的三个部件就是光源、光学镜头,以及双工件台系统了。

最近一段时间,年初开始进行光刻机研究的清华科研队伍,终于取得了新的突破。唐传祥带领的科研团队,通过新的验证方式,获得了一种新型加速粒子,命名为稳态微聚束。而它最重要的波长对应的波段,刚好是EUV光刻机所需要的核心光源技术。

这一消息被证实后,许多国外的光刻机设备工程师都不由地赞叹,该来的还是来了。这一步骤的完成,将预示着中国自造的光刻机研发成果,已经进入了新的里程碑。

这个消息也让很多关心中国光刻机进展的朋友们,大为惊讶。也发出了另一种赞叹的声音,有可能中国将在未来几年之内获得更快速的进展,包括了目前难以攻克的光刻机设备。不过来自国内的声音,清华大学科研的成功,预示着光刻机高精尖技术的加速,可能真的用不了几年就能收获更大的惊喜。

果不其然,据最新媒体的报道显示,清华科研团队参与的项目中,华卓精科研发的成果方面,本身产品的应用精度已经达到了世界先进水平,1.8nm的参数足以媲美当今先进的光刻机标准。

而我们知道,双工件是ASML这家机构最看重的技术。ASML不用多解释,作为世界最先进的 光刻机设备制造商,实力非常雄厚。这次清华团队的研究成果能够匹配ASML的1.8nm水平,就已经说明了我国的实力,毕竟连日本的尼康等公司,都没有能够做到1.8nm的水平。

这个结果足以打脸国外之前那些媒体,另外除了我国的高等院校参与之外。目前,中科院的高能辐射光源设备,也已经能够用0.1nm镀膜的参数,全力投入使用。

至此目前EUV光刻机所需的三大件均已完成里程碑的突破,这标志着量变终于引起了质变。国内的中科院教授同样发出这样的感叹,有这样的进度和人才储备,未来3年之内完成光刻机的初步模型,指日可待。

而国外ASML一直以来唱衰中国自研科学实力的做法,其实也很容易理解。一来是各国所处的角度不同,二来是很担心中国来冲击到它的世界光刻机的地位。

打铁还需自身硬,中国自研 科技 实力一步一步增强,也让竞争对手们胆寒。 科技 的博弈是未来的主旋律,不断增强人才储备和技术科研成果的更新,才能够不落后。核心技术就要掌握在自己手中,中国芯势必会走出一条自己的康庄大道。

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