光刻track设备通常包括以下几个主要部分：
1. 掩模对准系统：用于将掩模对准到硅片上，确保图形的精度和位置准确。
2. 光源系统：提供紫外线光源，通常使用的是氙气灯或氩气离子激光器，用于曝光硅片。
3. 曝光系统：将掩模上的图形投射到硅片上，通常使用的是透镜或反射镜等光学元件。
4. 显影系统：用于去除曝光后未固化的光刻胶，以形成图形。
5. 清洗系统：用于清洗硅片表面的残留物，以确保图形的质量和精度。
6. 控制系统：用于控制整个光刻track设备的运行，包括曝光时间、光源强度、显影时间等参数的控制。
以上是光刻track设备的主要组成部分，不同厂家和型号的设备可能会有所不同。
