研究团队由多学科背景的人员构成，包括：丁玉成(教授，机械工程)、刘红忠(副教授，电气工程)、段玉岗(副教授，高分子化学)、邱志惠(副教授、机械工程)、王伊卿(高工、机械工程)、王莉(博士、计算机)。
研究团队在学校985计划、211计划的持续支持下，并历经多项国家重要研究计划课题研究过程的积累，已建成120平方米的洁净实验室(2008年底将搬入1600平方米的新建大型洁净实验室)，购置了微纳米制造和光电子制造研究相关的以下主要设备(总投资4200多万元)：
■ 电子束直写光刻机(日本Crestec公司)
■ 双面对准接近式曝光机(美国ABM)
■ 回转式涂胶机(美国APTO)
■ 恒温式显影台(台湾)
■ 原子力显微镜1台(美国产)
■ SEM扫描电镜(日本Seiko)
■ 接触式探针台阶轮廓仪（美国Ambios）
■ 白光干涉微轮廓测量仪(美国产Plasmastar)
■ 等离子体刻蚀(PE)除胶机(美国产Plasmastar)
■ ICP刻蚀机(国产)
■ Bosch工艺干法体刻蚀机(英国Oxford)
■ 多路磁控溅射台(美国产Dolgo)
■ 管式炉(碳纳米管生长)
■ 硅片级封装机
■ 真空热封装机
■ 小型CMP抛光机
■ 分光式膜厚检测仪(美国产)
■ 薄膜特性测量椭偏仪（日本Keyence）
■ 3000倍光学显微镜(配CCD图象系统)1台(日本产)
■ 多功能高分子材料物化特性测试仪(国产)
■ 10mx5m隔振工作台和光学工作站
■ 硬度测量仪(英国产)
■ 高性能源表和IV/CV测量系统(器件电子性能、材料介电特性表征)
■ 界面接触角和表面张力分析仪
■ 比表面和空隙率分析仪
■ 飞秒激光直写加工系统(德国产)
